Nuchip Photoelectric Technology（Shan Dong）Co., Ltd. se fundó en septiembre de 2019, con un capital registrado de 53 millones de yuanes, una superficie de terreno planificada de 160 acres y un área de construcción de 120,000 metros cuadrados. La primera fase del proyecto cubre 52 acres con un área de construcción de 53,000 metros cuadrados, con una inversión total de 650 millones de yuanes.

La empresa está comprometida con la localización de sensores fotoeléctricos de alto rendimiento, rompiendo monopolios extranjeros, y es una empresa de alta tecnología en China que ha dominado la tecnología de fabricación de sensores fotoeléctricos de alto rendimiento y ha logrado indicadores de rendimiento avanzados internacionales. Los productos principales incluyen dos partes: (1)Los productos de sensores optoelectrónicos incluyen dos categorías: productos PIPS para aplicaciones de detección de rayos X y partículas cargadas (sensores Si-PIN, sensores de cámara de deriva de silicio SDD, sensores de píxeles de silicio SPD, sensores de microtiras de silicio SSD, etc.); Productos de PD de banda ultravioleta e infrarrojo cercano, luz visible (píxel único, píxel múltiple, arreglo en línea, arreglo de área, etc.), productos APD y SPAD. (2)Productos de componentes claves, incluidos componentes claves XRF, componentes claves XRD, componentes claves de instrumentos nucleares, componentes claves de imágenes médicas, componentes claves de TC industrial, etc.

Los productos se utilizan en equipos médicos, aeroespacial, seguridad, medición de distancia por láser, radar con láser, ciencias biológicas, detección de contaminación, instrumentos analíticos, equipos industriales, comunicación óptica, automóviles, y otros campos. Los productos relacionados desarrollados por nuestro equipo técnico han reemplazado productos de empresas extranjeras en los campos de la ciencia espacial, la detección nuclear y la seguridad ambiental.

La línea de proceso de semiconductores de 6 pulgadas incluye todo el proceso de semiconductores, como oxidación, fotolitografía, implantación de iones, pulverización, así como instalaciones de posprocesamiento como corte, adhesión, prueba y soporte del sistema de agua desionizada, sistema de gas de proceso (oxígeno de alta pureza, nitrógeno, helio, etc.), sistema de energía, sistema de tratamiento de aguas y gases residuales, etc. Se utiliza principalmente para la investigación y el desarrollo de chips de sensores optoelectrónicos de alto rendimiento, avances en tecnologías clave y producción a pequeña escala de productos de sensores (luz visible, ultravioleta, rayos X, rayos gamma, partículas cargadas). En el futuro, puede ampliarse a la investigación y producción a pequeña escala de sensores ultravioleta de silicio y sensores infrarrojos de semiconductores compuestos. En la actualidad, la línea de producción de 6 pulgadas se ha construido y puesto en funcionamiento, con la tecnología y las capacidades de diseño de chips, fabricación de obleas, pruebas de empaque y desarrollo de componentes. Esta línea de producción es una línea de producción por lotes de proceso de semiconductores de silicio especializada en el campo de los sensores optoelectrónicos en China. Los indicadores de rendimiento del producto de la línea de producción han sido evaluados por los clientes y han alcanzado el nivel avanzado internacional.