Tipo N TOPCon batería de doble cara HG210

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China
Edificio 72, Parque Industrial Jinrun, Comunidad de Alta Tecnología Gaochang, Pueblo Gaochang, Distrito Xuzhou, Ciudad de Yibin, Provincia de Sichuan
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Material de la matriz

Tabletas de silicio monocristalino dopado con fósforo tipo N

Espesor

130 ± 10% μm

Tamaño

182,2mm * 210mm ± 0,25mm,φ272mm ± 0,25mm

Frente

16 líneas de rejilla principales, 210 ± 10% líneas de rejilla secundaria, película antirreflectante azul (nitruro de silicio)

Reverso

16 líneas de rejilla principales, 228 ± 10% líneas de rejilla secundaria, película antirreflectante azul (nitruro de silicio)