es.wedoany.com Noticia: El equipo de Manfred Scheer de la Universidad de Ratisbona (Universität Regensburg) utilizó la sal de silanuro Na(Me₄TACD)SiH₃ como reactivo de transferencia de [SiH₃]⁻, y mediante reacciones de metátesis de sal con haluros del grupo 13 estabilizados por bases de Lewis (B, Al, Ga, In), logró sintetizar y caracterizar una serie de monómeros "siltriilanos" (silyltrielanes) previamente desconocidos, que contienen grupos SiH₃ terminales.
TACD significa 1,4,7,10-tetraazaciclododecano. Los compuestos aislados y completamente caracterizados por el equipo de investigación incluyen: el altamente inestable Me₃N·BH₂SiH₃ (detectado solo en mezclas), los sililboranos estabilizados por NHC (NHC = carbeno N-heterocíclico) IDipp·BH₂SiH₃ e IMe₄·BH₂SiH₃, el sililalano IDipp·AlEt₂SiH₃ extremadamente sensible al aire, y el sililgalano IDipp·GaH₂SiH₃ estabilizado por NHC. IDipp representa 1,3-bis(2,6-diisopropilfenil)imidazol-2-ilideno.
Mediante reacciones de triple metátesis de sal con IDipp·ECl₃ (E = Ga, In), el equipo también preparó IDipp·Ga(SiH₃)₃ e IDipp·In(SiH₃)₃, es decir, trisililtrianos con tres grupos SiH₃ unidos a un átomo de galio o indio. La investigación exploró las propiedades termodinámicas y de enlace de estos compuestos mediante cálculos DFT, RMN multinuclear, espectroscopía IR y difracción de rayos X de monocristal.
Los experimentos demostraron que Na(Me₄TACD)SiH₃ es una fuente práctica de SiH₃⁻ en solución, adecuada para reacciones limpias de metátesis de sal, que permite generar compuestos monoméricos con grupos SiH₃ terminales directamente enlazados a B, Al, Ga e In. El estudio muestra que los enlaces Si–E (E = B, Al, Ga, In) están altamente polarizados; en el caso del boro, este enlace puede describirse de manera similar al modelo Dewar–Chatt–Duncanson, donde la donación σ del SiH₃ y la interacción inversa con el orbital p vacío del boro hacen que este muestre un comportamiento "similar a un metal".
La investigación encontró que los compuestos de los elementos más pesados del grupo 13 (Al–In) son extremadamente sensibles al aire y tienen baja estabilidad térmica, mientras que los sililboranos estabilizados por NHC son relativamente más estables en condiciones inertes. En comparación con la química de [CH₃]⁻, la química de [SiH₃]⁻ está menos desarrollada, principalmente debido a las dificultades en la preparación y manipulación de las sales de silanuro. Este trabajo evita las rutas peligrosas basadas en SiH₄ y proporciona precursores moleculares bien definidos, lo que podría ser útil para diseñar nuevos compuestos de cadena principal del grupo principal (esqueleto B/Al/Ga/In–Si), para la deposición de películas delgadas y la química de materiales (precursores de hidruros volátiles), así como para comprender el enlace y la reactividad de especies del grupo principal que contienen SiH₃.
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